了解（jiě）真空鍍膜和光學鍍膜的區別

1、概念差（chà）異

1. 真空鍍膜是指在高真空（kōng）條件下加熱金（jīn）屬或非金屬材料，使其（qí）在被鍍件(金屬（shǔ）、半導體或絕（jué）緣體)表麵蒸發凝結形成薄膜的（de）一種方法。如真空（kōng）鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學鍍膜是（shì）指在光學元件表麵塗覆一（yī）層(或多層)金屬(或介電（diàn）)薄膜的工藝。在光學元件表（biǎo）麵塗膜的目的是為了減少或增（zēng）加光的反射、分束、分色（sè）、過濾、偏振等要求。常用的包覆方法有真空包覆(物理包（bāo）覆的一種)和化學包覆。

2、原則差異

1. 真空（kōng）鍍膜是真空應用的一個重要方麵，它以真空技術（shù）為基礎，利用物理或化學方法，吸收（shōu）了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等一係列新（xīn）技術（shù），為科學研究和實（shí）際生產提供了薄（báo）膜製備的新工藝。簡單地說，就是在真（zhēn）空中蒸發或濺射金屬、合金或化（huà）合物以（yǐ）使其凝固並沉積（jī）在塗層物體（tǐ）(稱（chēng）為基材、襯底或襯底)上的方法（fǎ）。

2. 光的幹涉在薄膜光學中有著廣泛的應用。光學薄膜技術常用的方法是通過真空（kōng）濺射在玻璃基板上（shàng）塗覆薄膜，一般用來控製基板對（duì）入射光束的（de）反射率和透射率，以滿足不同的需要。為了消除光學元件表麵的反射損失，提高成像質量，在表麵塗上一（yī）層或多層透明的介電膜，稱為抗反射膜或抗反射膜（mó）。

隨著激（jī）光技術的發展，對膜層的反射率和透射率有了不同的要求，促進了多層（céng）高反射膜和寬帶（dài）增透膜的發展。為滿（mǎn）足各種應用的需要，采用高（gāo）反射膜製造偏光反（fǎn）射膜、彩色光譜膜、冷（lěng）光膜、幹涉濾（lǜ）光片等。光學元件表麵塗覆後，光在膜層上多次反射透射，形成多束幹涉。通過控製膜層的折射率和厚度，可以得（dé）到不同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本原理。

3、方法和材料的差異

1. 真空鍍膜法

(1)真空蒸發鍍:將待鍍基（jī）材清（qīng）洗幹淨，放入鍍膜室。抽真空後，將薄膜材料加（jiā）熱到高溫，使蒸（zhēng）氣達到（dào）約13.3Pa，使蒸氣分（fèn）子飛到基片（piàn）表麵，凝結成（chéng）薄膜（mó）。

(2)陰 極濺射鍍:將待鍍基材置於陰 極的對（duì）麵，在真空室中引入惰性氣體(如氬氣)，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將（jiāng）陰 極接在2000V直流（liú）電源上刺激輝光放電。正氬離子撞（zhuàng）擊陰（yīn） 極，使其釋放出原子。濺落的原子通過惰性氣氛沉積（jī）在襯底上，形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬或有機化合物進行（háng）熱分解得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發鍍和陰 極濺射鍍的有機結合（hé），具有兩者的工藝特點。各種塗覆方式（shì）的優缺點如表6-9所示。

2. 光（guāng）學鍍膜方法用材料

(1)氟化鎂:純度高的無色四方結晶粉末，用於（yú）光學鍍膜，提高透光率，防止坍塌點。

(2)二氧化（huà）矽:無色透明晶體，熔點高，硬度高，化學穩定（dìng）性好。純度（dù）高，用於製備高品質SiO2塗層（céng），蒸發狀態好，無坍（tān）塌點。根據使用要求分為紫外（wài）線、紅外線和可見光。

(3)氧化鋯:白色重（chóng）晶態，具有高折射（shè）率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高。用於製（zhì）備無坍塌（tā）點的高質量氧化鋯塗層。