真空鍍膜技術的（de）專（zhuān）業術語和工藝

1.1真空鍍膜（mó）:在真空條件下在基材上製備（bèi）薄膜層的方法。

1.2底物:膜層受體（tǐ）。

1.3測試基材:在塗層過程開始、過程中或之後用於測量和/或測試的基（jī）材。

1.4塗層材（cái）料（liào）:用（yòng）於製作（zuò）塗層的（de）原材料。

1.5蒸發材料（liào）:真空蒸（zhēng）發中用於蒸發的塗層材料。

1.6濺射材料:真空濺射中用於濺射的塗層材料（liào）。

1.7膜材:構成膜層的材料。

1.8蒸發速率:在給定的時間間（jiān）隔內，物（wù）質的蒸發量除以該時間間隔

1.9濺射率:在給定時間間隔內濺射出的材料（liào）量除以該時間間隔。

1.10沉積速（sù）率:在給定時（shí）間間隔內沉積在襯底上的材（cái）料量（liàng），除（chú）以時間（jiān）間隔和襯底表麵積（jī）。

1.11塗層角:顆粒入射到基材（cái）上的方（fāng）向與被塗層表麵法線之間的夾角。

2過（guò）程

2.1真空蒸發鍍膜:使塗層材料蒸發（fā）的真空鍍膜工藝。

2.1.1同時蒸發:利用多台蒸發器將各種蒸發物質同時蒸發到基材上的真空蒸發。

2.1.2蒸發場蒸發:從蒸發場同時蒸發出來（lái）的材料（liào）沉積在基片上的真空（kōng）蒸發（fā）過程(該過程應用於大規模蒸發，以達到理想（xiǎng）的（de）膜厚分布)。

2.1.3反應真空蒸發:膜材料通過與氣體反應而達到理想化學成分的真空蒸（zhēng）發。

2.1.4蒸發器反應真空蒸發（fā）蒸發器反應真空（kōng）蒸發:與蒸發器（qì）內各種蒸發物質發生反應，得（dé）到理想化學成分膜（mó）層材料的真（zhēn）空蒸發。

2.1.5直接加熱蒸發:蒸發物料蒸發所需的熱（rè）量是（shì）蒸發物料（liào）本身的（de）蒸發(有或無坩堝)。

2.1.6感應加熱蒸發:通過感應渦流加熱使物料蒸發（fā）。

2.1.7電子束蒸發:通過電子轟擊加熱材料的蒸發。