江蘇MSD係列直流磁控濺射電源

主要型（xíng）號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減（jiǎn）小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應（yīng）用在鋁靶鍍膜優勢（shì）更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特（tè）性，自（zì）動識別偽打火現象，
充分（fèn）滿足磁（cí）控濺射工藝過程的連（lián）續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性（xìng）能穩定可靠，生（shēng）產工（gōng）藝嚴格完善。
該係列產品采用先（xiān）進的DSP控製係統，充分保證（zhèng）鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶（bǎ）麵（miàn）清洗工藝（yì）的穩定性，又提高了靶麵清洗速度（dù）；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和（hé）RS485接口擴展功能，方便實現自動（dòng）化控製。

主要用途：

直流磁控（kòng）濺射用於鍍製各種金（jīn）屬

在電子科技快速發展的時代中，電（diàn）源（yuán）的應用可以（yǐ）說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應用，所以電源的類型也隨之（zhī）而（ér）多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中（zhōng）的（de）一種，這種電源與（yǔ）普通的（de）電源有一定的區別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真（zhēn）空鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光（guāng）線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被（bèi）反（fǎn）射掉，在光學瞄準鏡中有許（xǔ）多透鏡和折射（shè）鏡（jìng），整個加起來（lái）可以讓入射（shè）光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常（cháng）都（dōu）鍍有單層或多層氟化鎂的增透（tòu）膜，單層增透膜（mó）可（kě）使反射減少（shǎo）至1.5%，多層增（zēng）透膜則可讓反（fǎn）射降低至0.25%，所以（yǐ）整個（gè）瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可（kě）達95%。鍍了單層增透膜的鏡（jìng）片通常是藍紫色（sè）或是紅色，鍍多層增透（tòu）膜的鏡片則呈（chéng）淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜（mó）機增（zēng）透膜增加透射（shè）光強度的實質是作（zuò）為電磁（cí）波的光波在傳播的過程中，在（zài）不同介質的分界麵上，由（yóu）於邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對於單（dān）層薄膜來說，當增透膜兩（liǎng）邊介質不同時，薄（báo）膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射（shè）率（lǜ）n=（n1*n2)^(1/2)時（shí）（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透（tòu）過介（jiè）質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在（zài）1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達（dá）到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍（bèi）四分之一個波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透（tòu），為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用（yòng）鍍多層膜來實現（xiàn）。

人們對增透膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因（yīn）此增透膜的應用涉及醫學、軍（jun1）事、太（tài）空探索等各行各業，為（wéi）人類科技（jì）進步作出了重大貢獻。