MSD係列直流磁（cí）控濺射（shè）電源

主要型（xíng）號：

主要特點（diǎn）：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件（jiàn），
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒（héng）流/恒功率模式可選。恒功（gōng）率模式相（xiàng）對於傳統的恒流模式（shì），
更（gèng）能保證（zhèng）鍍膜工藝的（de）重複性。
  C 具有（yǒu）理想的電壓陡（dǒu）降（jiàng）特性，自（zì）動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過（guò）程的連續（xù）性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手（shǒu）動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用（yòng）先進的PWM脈寬調製技術，使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍（dù）膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材（cái）弧光放電及抗短路功能（néng），
具有極佳的負載匹配能力（lì），既保證了（le）靶麵清洗工藝的（de）穩定性，又提高了靶麵（miàn）清洗速度；
主要參數均可大範圍連（lián）續調節；
方（fāng）便維護，可靠（kào）性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科（kē）技快速發（fā）展的時代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應（yīng）用，所以電源（yuán）的類型也隨之而多（duō）樣（yàng）。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種（zhǒng）電源與普通的電源有一定的區別，單是電源的外觀就有（yǒu）明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽（me）要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約（yuē）有5%會被（bèi）反（fǎn）射掉，在光學瞄準鏡中有（yǒu）許多透鏡（jìng）和折射鏡，整個加起（qǐ）來可以讓（ràng）入射光線損（sǔn）失達（dá）30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或（huò）多層氟化鎂的（de）增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如（rú）果加以適當鍍膜（mó），光線透穿率可達95%。鍍了單層（céng）增（zēng）透（tòu）膜的鏡片通（tōng）常是藍紫色或是（shì）紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色（sè）。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度（dù）的實質是（shì）作為電磁波的光波在傳播（bō）的過程（chéng）中，在不同介質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄（báo）膜來說，當增透（tòu）膜兩邊介質不（bú）同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才（cái）可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折（shé）射（shè）率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增（zēng）透效果（guǒ），可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的（de）厚度=（2k+1)倍四分之（zhī）一個波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透，為（wéi）使在更大範圍內和更多波長實（shí）現增（zēng）透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜（mó）的利用有了（le）很多的經驗（yàn），發（fā）現了不少可以作為增透膜（mó）的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因（yīn）此增透膜的應用（yòng）涉及（jí）醫學、軍事、太空探索等各（gè）行各業，為人類科技進步作出了重（chóng）大貢獻。