真空鍍膜電源廠（chǎng）家簡述離子鍍的原（yuán）理

2020-08-25 00:00:00

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離子鍍種類很多，蒸（zhēng）發遠加熱方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱等。

真（zhēn）空鍍膜電（diàn）源廠家

離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在（zài）氣體離子或被蒸發物質粒子轟（hōng）擊作用的同時（shí），將蒸（zhēng）發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空（kōng）蒸發三（sān）者有機結（jié）合起來（lái），不僅能明顯地改（gǎi）進了膜質量，而且還（hái）擴大了薄膜的應用範圍。多弧電源其優點是（shì）薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。真空鍍膜電源廠家首（shǒu）次提出離子鍍原理，起工作過程是：

先將真空室（shì）抽至（zhì）4×10（-3）帕以上的真空度，再接通 高壓電（diàn）源，在蒸發源與基片之間建立一（yī）個低壓氣體（tǐ）放電的低溫等離子區。基片電（diàn）極接上5KV直流負高壓，從而形成輝光放電陰極。輝光放電去（qù）產生的惰性氣體（tǐ）離子進入陰極暗區（qū）被電場加速並轟擊基片表麵，對其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料（liào）氣（qì）化，起原子進（jìn）入等離子區，與惰性氣體離子及電子發生碰撞，少部分產生離化。離化後的例子（zǐ）及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表麵，致使膜層質量得到改善。

然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區別。多弧（hú）離子鍍（dù）采用的是弧光放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放（fàng）電進（jìn）行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是（shì）把陰（yīn）極靶作為蒸發源，通（tōng）過靶（bǎ）與陽極（jí）殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發（fā），從而在空間中（zhōng）形成等離（lí）子體，對基體進行（háng）沉積。