MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明（míng）顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺（jiàn）射表麵的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射（shè）工藝過程的（de）連（lián）續（xù）性。
   C 空載電壓≥1000V，工作（zuò）電壓200~800V。
   D 頻率（lǜ）40kHz，占空（kōng）比20%~80%。
   E 可選（xuǎn）擇（zé）手動控製/模擬量（liàng）接口控製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
采用先進的（de）PWM脈寬調製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開關器件，
體（tǐ）積（jī）小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並且具有抑製靶材（cái）弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力（lì），既（jì）保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清（qīng）洗速度；
主要參數均可大範（fàn）圍連續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自（zì）動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射（shè）適用於金屬、合（hé）金及石墨等靶材（cái）鍍製金屬膜、碳膜和部（bù）分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍（dù）膜前必須（xū）進行預清洗，這種（zhǒng）清洗要求很高，達到（dào）分子級。在清洗槽中分別放置各（gè）種清洗液，並采用超聲波加強清洗效果（guǒ），當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此（cǐ）過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏（nián）附在（zài）鏡片表麵。最後的（de）清洗是在真空艙（cāng）內，在此過程中要特別注意避免空（kōng）氣中的灰塵和垃圾（jī）再（zài）黏（nián）附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內（nèi）鍍前進行的，放置在真空艙（cāng）內的離子（zǐ）槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此（cǐ）道清洗工（gōng）序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍（dù）膜電源（yuán）為什麽在現在（zài）會應（yīng）用那麽多呢，有哪些明顯的效果？

概念的（de）區別（bié）：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬（shǔ）或（huò）非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或（huò）絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁（lǚ）、真空鍍鉻（gè）等。

2、光學鍍膜是指在（zài）光學零件（jiàn）表麵上鍍上一層（céng）(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝（yì）過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反（fǎn）射、分束、分（fèn）色、濾光、偏振等（děng）要求。常用的（de）鍍膜（mó）法有真空鍍（dù）膜(物理鍍膜的一種（zhǒng）)和化學鍍膜。