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鏡片在（zài）接受鍍膜前必須進（jìn）行預清洗，這種清洗（xǐ）要求很高，達到（dào）分子級。在清洗（xǐ）槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後，放（fàng）進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵（chén）和垃圾再黏附（fù）在鏡片表麵。最後的清洗是在真（zhēn）空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰（huī）塵和垃圾再黏附（fù）在鏡片表麵。最後的（de）清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工（gōng）序後即進行（háng）減反射膜的鍍膜。
真空鍍膜電源為什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的效果？
概念的區別：
1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金（jīn）屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金（jīn）屬、半（bàn）導體或絕緣體）表麵而形成（chéng）薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
2、光（guāng）學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層（céng）)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零（líng）件表麵鍍膜的目的是為了達到減少（shǎo）或增加（jiā）光（guāng）的反射、分束、分色、濾光（guāng）、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。
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