武漢MSD係列（liè）直流（liú）磁控（kòng）濺（jiàn）射電源

主（zhǔ）要型號（hào）：

主（zhǔ）要特點：
   A 采用先進的電流（liú）型開關電源技術，減小輸出儲（chǔ）能元件，
同時提高（gāo）了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工藝（yì）的重複性。
  C 具有理想（xiǎng）的（de）電壓陡降特性，自動識別偽打火現（xiàn）象（xiàng），
充分滿足磁（cí）控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選（xuǎn）擇手動控製/模擬量接口（kǒu）控製（zhì），可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大（dà）功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體積小、重量輕（qīng）、功能全、性能穩定可靠，生產工藝（yì）嚴格（gé）完善。
該（gāi）係列產品采用先進（jìn）的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負（fù）載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗（xǐ）速度；
主要參數均可大範圍（wéi）連（lián）續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要用途：

直流磁控濺射用（yòng）於鍍製各種金屬

在電子科（kē）技快速發展（zhǎn）的時代中，電源的應（yīng）用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應用，所（suǒ）以電源的類（lèi）型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類（lèi）型中的一種（zhǒng），這種電源與普通的電（diàn）源有一定的（de）區別，單是電源的外觀就（jiù）有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜（mó）加工（gōng）上有什麽要（yào）注意的嗎？當光線進入不同傳遞物（wù）質時（如由空氣進入玻璃（lí）），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折（shé）射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通（tōng）常都鍍有單層或多層氟化鎂（měi）的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準（zhǔn）鏡如（rú）果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增（zēng）透膜（mó）的鏡片通常是藍紫色或是紅（hóng）色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡（dàn）綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的（de）實質是作為電磁波的光波在傳（chuán）播的（de）過程中，在不同（tóng）介質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當（dāng）增透膜兩邊（biān）介質不同時，薄膜厚度為（wéi）1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的（de）折（shé）射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃（lí），為使單層膜達到100%的增透效（xiào）果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要（yào）使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜（mó）隻（zhī）對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大（dà）範圍內（nèi）和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜（mó）來實現。

人們（men）對（duì）增透膜的利用有了（le）很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材（cái）料；同時也掌（zhǎng）握了不（bú）少先進的鍍膜技術，因（yīn）此增（zēng）透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等（děng）各行各業，為人類科技進步作（zuò）出了重大（dà）貢獻。