脈衝磁（cí）控濺射（shè）電源簡介

說（shuō）起單極脈衝磁控濺射電源，可能有點（diǎn）困惑，但我想說（shuō）的是，它是對直流（liú）磁控濺射電源的升級，是不是突然（rán）明白了？脈衝磁控濺射是用（yòng）矩形波電壓（yā）脈衝電源代替傳統直流電源的一（yī）種方法。脈衝濺射可以有效地抑製電弧的產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提（tí）高濺射的沉積（jī）速率，降低沉積溫度等（děng）一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的精選工藝。一個周期有正電（diàn）壓和負電壓兩個階（jiē）段（duàn），在負電壓段中，電源作用於靶材的濺射，正電壓段（duàn）將電子積累（lèi）的正電荷引入靶（bǎ）材表麵，使表麵清潔，露出金屬表麵（miàn）。施（shī）加在靶材上的脈衝電壓與一（yī）般磁控濺射的脈衝電壓相同（tóng）！對於400~500V，電源頻率在10~350KHz，在（zài）保證穩定（dìng）放電（diàn）的前提下，應（yīng）盡可能低地取（qǔ）頻率#因為等離子體中的電子相對於離子具有更高的遷（qiān）移（yí）率，所以正電壓值隻需要是負電壓（yā）的（de）10%到20%，就可以有效地中和積聚在靶表麵的（de）正電荷。占空比（bǐ）的選擇確保（bǎo）了濺射過程中靶表麵（miàn）積累（lèi）的電荷在正（zhèng）電壓階（jiē）段可以完全被中和，從而盡（jìn）可能地提高占空比，以實（shí）現電源的較大效率。

單極（jí）脈衝磁控濺射電源的（de）優點是，它（tā）可以有效地抑製（zhì）電弧的（de）產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同（tóng）時可（kě）以提高濺射（shè）的沉積速率，降低（dī）沉積溫（wēn）度等一係列顯著優點，是（shì）沉積濺（jiàn）射絕緣材（cái）料的較佳工藝