脈（mò）衝磁控（kòng）濺射電源的功能和工作原理

脈衝磁控濺射是一種用矩形波電壓（yā）脈衝電源代替傳統直流電（diàn）源的方法。脈衝（chōng）濺射可以有效抑（yì）製電弧的（de）產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一（yī）係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的工藝。

脈衝磁控濺射的工作原理

一個周期有正電壓和負電壓兩個階段，在負電壓段，電源對靶材的濺射起作用（yòng），正電壓段引入電子和靶材（cái）表麵積累的正電荷，使表麵清（qīng）潔（jié），露出金屬表麵。

施加在靶材上的（de）脈衝電壓與普（pǔ）通磁控濺射相同！對於400~500V，電源（yuán）頻率在10~350KHz，在保證放電穩定的前提下，應盡可（kě）能取低的頻率（lǜ）#因為等離子體中的電子相對於離子具有較高的遷移率，所以正電壓值（zhí）隻需要負（fù）電壓的10%-20%，就可以有效地中和積累在靶表麵上的（de）正電（diàn）荷。占空比的選擇確（què）保了濺射過程中靶（bǎ）表麵上的累積電荷可以（yǐ）在正電壓階段完全中和，從而盡可（kě）能提高占空比，實（shí）現電（diàn）源的大效（xiào）率。