浙江MSDP單極脈衝（chōng）磁控（kòng）濺（jiàn）射電源

主要（yào）型號：

主要特點：
   A 明（míng）顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的打火次數（shù），提（tí）高膜層質（zhì）量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想的（de）電壓陡降（jiàng）特性，
充分滿足磁控濺射工藝（yì）過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
采用先進（jìn）的PWM脈寬（kuān）調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積（jī）小、重量輕、功能（néng）全（quán）、性（xìng）能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的（de）DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路（lù）功能，
具有極佳的負（fù）載匹配能力，既保證（zhèng）了靶麵清洗（xǐ）工藝的（de）穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍（wéi）連續調節（jiē）；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現（xiàn）自動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射（shè）適用於金屬、合金及石墨（mò）等靶材鍍製金屬膜、碳膜（mó）和部（bù）分氧化物、氮（dàn）化物及碳化物膜。

鏡（jìng）片在（zài）接受（shòu）鍍膜前必須進（jìn）行預清洗，這種清洗（xǐ）要求很高，達（dá）到分子級。在清洗槽（cáo）中分別放置各（gè）種清洗液，並采（cǎi）用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再（zài）黏附（fù）在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙（cāng）內，在此過程中要特別注意避免空氣中（zhōng）的灰塵和垃（lā）圾再黏附在鏡片表（biǎo）麵。最後的清洗（xǐ）是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射（shè）膜的鍍膜。

真空鍍（dù）膜電源為什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些（xiē）明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍（dù）膜是指在高真空的條件（jiàn）下加熱金屬（shǔ）或非金屬（shǔ）材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導（dǎo）體或絕緣體）表麵（miàn）而（ér）形（xíng）成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是（shì）指在光（guāng）學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜（mó）的工（gōng）藝過程。在光學（xué）零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的（de）反射、分束、分色、濾光（guāng）、偏振等要求。常用的鍍膜法有真（zhēn）空鍍膜(物理鍍膜（mó）的一種)和化學鍍膜。