武漢MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積（jī）累現象，減小濺射表麵的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能（néng），具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電（diàn）壓（yā）200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能（néng）全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完（wán）善。
該係列（liè）產品采用先進的DSP控製（zhì）係統（tǒng），充（chōng）分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製（zhì）靶材弧光放（fàng）電及抗短路（lù）功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶（bǎ）麵清洗工藝的穩定性，又（yòu）提（tí）高了靶麵清（qīng）洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射適用於金屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化（huà）物及（jí）碳化物膜。

鏡片在接受（shòu）鍍膜（mó）前必須進行預清洗，這種清洗要求（qiú）很高，達到分子級。在清（qīng）洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡（jìng）片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別（bié）注意避免空（kōng）氣中的灰塵（chén）和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的（de）清洗是（shì）在真空艙內，在此過程中要特別注意（yì）避免（miǎn）空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片（piàn）表（biǎo）麵。最後的清洗是在真空（kōng）艙內鍍前進行的（de），放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡（jìng）片的表麵（例（lì）如用氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在會應（yīng）用（yòng）那麽多（duō）呢，有哪些（xiē）明顯的效果？

概念的（de）區別：

1、真空鍍（dù）膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結（jié）於鍍件（金屬、半導（dǎo）體或絕（jué）緣體）表麵而形（xíng）成薄膜的一種方法。例（lì）如，真空鍍（dù）鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介（jiè）質)薄膜的工藝過程。在光學零件表（biǎo）麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反（fǎn）射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理（lǐ）鍍膜（mó）的一種（zhǒng）)和化學鍍膜。