上海MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型（xíng）號：

主要特點：
   A 明顯改善靶（bǎ）麵（miàn）電荷積累現象（xiàng），減小濺射表麵的打火次（cì）數，提高膜層質（zhì）量。
   B 具有平均（jun1）電源穩定（dìng）功能，具有理（lǐ）想的電壓陡降（jiàng）特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載（zǎi）電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率（lǜ）40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬（nǐ）量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調（diào）製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品（pǐn）采用（yòng）先（xiān）進（jìn）的DSP控製係統（tǒng），充分保證鍍膜工藝的重複性（xìng），
並且具有抑製靶材弧光放電及（jí）抗短路功能，
具有極佳的負載匹配（pèi）能力，既保（bǎo）證了靶麵（miàn）清洗工藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可（kě）大範圍連續調節（jiē）；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要用途：

單（dān）極脈衝（chōng）磁控濺射適（shì）用於金屬、合金（jīn）及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受（shòu）鍍膜（mó）前必須進（jìn）行（háng）預清洗（xǐ），這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清洗效（xiào）果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意（yì）避免空氣中（zhōng）的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在（zài）真空艙內鍍前進行的，放置在真（zhēn）空艙內（nèi）的離子槍將轟擊鏡片的表麵（miàn）（例如用（yòng）氬離子），完成此道清洗工序後即進（jìn）行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現（xiàn）在會應用（yòng）那麽多呢，有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍（dù）膜是指在高真空（kōng）的（de）條件下（xià）加熱金屬或（huò）非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或（huò）絕緣體（tǐ））表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零（líng）件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過（guò）程。在光學零件表麵鍍膜的目的是（shì）為了達到減少或增（zēng）加光的反射、分束、分色、濾光、偏振（zhèn）等要求。常用的（de）鍍膜法有（yǒu）真空鍍膜(物理（lǐ）鍍膜的一種)和化學鍍膜。