上海HVP高壓窄脈衝電源（yuán）

主要型號（hào）：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度（dù）和膜層結合力。
   B 電壓脈（mò）衝輸（shū）出峰（fēng）值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度（dù）25uS)。
   D 可選擇手動（dòng）控製/模擬（nǐ）量接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工（gōng）藝（yì）的重複性，
並且具有抑製靶材弧光（guāng）放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數（shù）均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製（zhì）。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍（dù）膜工藝時被鍍（dù）工件表麵（miàn）的輝光清洗（xǐ）、鍍膜前的離（lí）子轟（hōng）擊和鍍膜時的離子加速等。

社會（huì）不斷發展，技術也（yě）是不斷得在創新。真空鍍（dù）膜電源的運用範（fàn）圍是（shì）越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合（hé）成與加工的新技（jì）術，是表麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速（sù）發展，真空鍍膜技（jì）術應用越來越（yuè）廣泛。從半導體集（jí）成電路、LED、顯示器、觸摸（mō）屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不（bú）斷增加，包括製造大規模集成電路的電（diàn）學膜；數字式縱向與橫向均可磁化（huà）的數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種（zhǒng）光學特性的光學膜（mó）；計算機顯示用的感光膜（mó）；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建（jiàn）築、汽（qì）車行業上應用的玻璃（lí）鍍膜和裝飾膜（mó）；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種（zhǒng）功能裝飾效（xiào）果的功能膜（mó）；工、模具（jù）表（biǎo）麵（miàn）上應用的耐磨超硬膜；納米材（cái）料研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空鍍膜設備製造企業發展建議如下：

1、目（mù）前實（shí）體經濟走勢整體疲弱，複蘇（sū）充滿不確定性，經濟處於（yú）繼續探底過程，真空（kōng）鍍膜設備製造企業應著力進行產業結構優化升級，重質量、重服務明確市場定位，大（dà）力研發擁有自主知識產權（quán）的（de）新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息（xī）化發展趨勢，堅持“以信息（xī）化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條（tiáo）科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少（shǎo）、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業（yè）化路子。

3、依（yī）托政府支持，大力加強與擁有行業先進（jìn）技術和工藝水平的科研院所、大（dà）型企業、高校合（hé）作，使得新品（pǐn）能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十（shí）分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等（děng）製造業將以信息（xī）化融合為（wéi）重心，依靠技（jì）術進步，更加注重技（jì）術（shù）能力（lì）積累（lèi），製造偏向服務型（xíng），向世界真空鍍膜（mó）設備行業等製造業（yè）價值鏈高端挺進。