HVP高（gāo）壓窄脈衝電源

主要（yào）型號：

主（zhǔ）要特（tè）點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有（yǒu）理想的（de）電壓陡降特性，
有效抑製工（gōng）件表麵（miàn）打火，明顯提（tí）高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜層（céng）結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占（zhàn）空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控（kòng）製（zhì）/模擬量接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
采用先進的PWM脈寬（kuān）調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為（wéi）功（gōng）率（lǜ）開關器件（jiàn），
體積小、重量輕、功能全、性（xìng）能穩定可靠，生產工藝（yì）嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝（yì）的重複性，
並且具（jù）有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩（wěn）定性，又提高了（le）靶麵清洗速度；
主要參（cān）數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接（jiē）口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主（zhǔ）要用途：

高壓窄脈（mò）衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被（bèi）鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會（huì）不斷發展，技術也是不（bú）斷得在創（chuàng）新。真空鍍膜電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新（xīn）技術，是表麵工程技術領域的重要組（zǔ）成部分。隨著全球製造業高速發展，真空（kōng）鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示（shì）器、觸摸屏（píng）、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備（bèi）、技術材料需求都在不斷增加，包括製（zhì）造大規模集成（chéng）電路的電學膜；數字（zì）式縱向（xiàng）與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分（fèn）展示和應用（yòng）各種光學特性的光學膜；計算機顯（xiǎn）示用的感光膜；TFT、PDP平麵（miàn）顯（xiǎn）示器上的導電膜和增透膜；建築、汽（qì）車行業上應用的玻璃鍍膜（mó）和裝飾膜；包裝領（lǐng）域（yù）用（yòng）防護膜、阻隔膜；裝飾（shì）材料（liào）上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表（biǎo）麵上應用的耐磨超硬膜；納（nà）米材料研究方（fāng）麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空（kōng）鍍膜設備製造企業（yè）發展建議如下（xià）：

1、目（mù）前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造（zào）企業（yè）應（yīng）著力進行產業結構優化升級，重質量（liàng）、重服務明確市場定位，大（dà）力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高（gāo）產品（pǐn）質量和服務（wù）水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業化（huà），以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁（yōng）有行（háng）業先進技術和工藝水平的科研院所、大型（xíng）企業、高校合作，使得新（xīn）品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真（zhēn）空鍍（dù）膜設備行業等（děng）製造業（yè）將（jiāng）以信息化融合為重心，依靠技術進（jìn）步，更加（jiā）注重技術能力積累，製造偏（piān）向（xiàng）服務型，向世界真空鍍膜設備行業（yè）等製造業（yè）價值鏈高端挺進。