江蘇MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積（jī）累現象（xiàng），減小濺射表麵的打火（huǒ）次數，提（tí）高膜層質（zhì）量。
   B 具有平均電源穩定功能（néng），具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝（yì）過程的連（lián）續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控（kòng）製，可（kě）選（xuǎn）配RS485通訊接口（kǒu）。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係（xì）列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝（yì）的重複性（xìng），
並且具有抑製靶材弧光放電（diàn）及抗（kàng）短路功能，
具有（yǒu）極佳（jiā）的負載匹配（pèi）能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高（gāo）了靶麵清洗速度；
主要參（cān）數均可（kě）大（dà）範圍連續調節；
方便維護，可（kě）靠性高；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射（shè）適用（yòng）於金屬、合金及石墨等靶（bǎ）材鍍製金屬膜、碳膜（mó）和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要（yào）求很高，達到分子級。在清洗槽（cáo）中分別（bié）放置各種清洗液，並采用超聲（shēng）波加強（qiáng）清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中（zhōng）要特別注（zhù）意避免空氣中的（de）灰塵和（hé）垃（lā）圾再黏（nián）附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內（nèi），在此過程中要特別注意避免（miǎn）空氣中的灰（huī）塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前（qián）進（jìn）行的，放（fàng）置在真空艙內的離子（zǐ）槍將轟擊鏡片的表麵（例（lì）如用（yòng）氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什（shí）麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜（mó）是指在高真（zhēn）空的條件（jiàn）下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣（yuán）體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真（zhēn）空鍍鉻等。

2、光學鍍膜（mó）是指在光學零（líng）件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜（mó）的工藝過程。在（zài）光學零件表麵鍍膜的目的是為了達（dá）到減少或增（zēng）加光的反（fǎn）射、分束、分色、濾光、偏振（zhèn）等要（yào）求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。