 
    主要型號:
| 型號 | 功率(W) | 工(gōng)作電壓(V) | 蕞大(dà)峰值(zhí)電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 | 
| MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 | 
| MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
| MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 | 
主要特點:
   A 可選擇三角波、矩形(xíng)波、正弦波三種波形,波形的蕞高值和蕞低值可獨立設(shè)置。
   B輸出電壓(yā)範圍:-40V~+40V。
   C波(bō)形頻率範圍(wéi):0.1-50Hz
   D三角波、矩形(xíng)波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製/模(mó)擬量接口控製,可選(xuǎn)配RS485通訊(xùn)接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴(yán)格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光(guāng)放電及抗短路(lù)功能,
具有極(jí)佳的負載(zǎi)匹配能力,既保證了靶(bǎ)麵清洗工藝的(de)穩(wěn)定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性(xìng)高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方(fāng)便實現自動化(huà)控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電(diàn)壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電(diàn)變為(wéi)均勻放電(diàn),提高工件膜層質量

現在(zài)工業區,在範圍上擴展的是越來越廣,跟隨(suí)我(wǒ)們行業的發展,現在機械設備研發的是(shì)越來越(yuè)多,當然啦,研發那麽多,在一些加工廠家(jiā)肯定是要應用到的啦,在範圍上,在數量上都不會少,現在91av來了解下真空鍍(dù)膜電(diàn)源這項項目吧!

1、在光學儀器中:人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術,鍍製的薄膜有(yǒu)反射膜(mó)、增(zēng)透膜和吸收膜等幾種。
2、在信息存(cún)儲領域中(zhōng):薄膜材料作為(wéi)信息記錄於存儲介質,有其得天獨厚的優勢:由於薄膜(mó)很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉極為迅速;與膜麵平行的雙穩態狀態容易保持等。為了更精密地記錄(lù)與存儲信息,必然要采用鍍膜技術。
3、在傳(chuán)感器方麵:在傳感器中,多采用那些電氣性質相(xiàng)對於物理量、化學量及(jí)其變(biàn)化來說,極(jí)為(wéi)敏(mǐn)感的半導體(tǐ)材料。此外,其中,大(dà)多(duō)數利用的是半導體的表麵、界麵的(de)性質,需要盡量增大其麵(miàn)積(jī),且能工業(yè)化、低價格製作(zuò),因此,采(cǎi)用薄膜的情況很多。
4、在集成電路製造中:晶(jīng)體管(guǎn)路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(xiàn)(多晶(jīng)矽、鋁、銅及其合金)等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發(fā)金屬技術、磁控濺射技(jì)術和射頻濺射技術。可見,氣相沉積是製(zhì)備集成電路的核心(xīn)技術之一。
 
			手機:18802599203(劉(liú)小姐)
微信號(hào):18802599203
郵箱:841426141@qq.com
地址:中山市石岐區(qū)海景工業區3、4、5號(4號樓3-4樓)

 
			        手機瀏覽