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真空鍍膜是真空（kōng）應用領域的一個突破性技術，利用物理或者化學方法並吸收一係列新技術而成的（de）工藝，目的就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。真（zhēn）空鍍膜電源廠家介紹真空鍍膜有什麽特點：
（1）成膜溫度低。鋼鐵行業（yè）中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學（xué）鍍膜（mó）溫度更高（gāo）達1000℃以（yǐ）上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質，而真空（kōng）鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規鍍膜工（gōng）藝的弊（bì）端。
（2）蒸發源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材（cái）料多而不受材料熔點限製，可（kě）鍍種類眾多（duō）的金屬氮化膜，金屬氧化（huà）膜和金屬炭化物及各種複合膜。
（3）不使用有害氣體、液體（tǐ），對環境無不利（lì）影響。在當前越來越重視環保的大趨勢（shì）下（xià），這點極其可貴。
（4）帶鋼鍍膜（mó）質量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕（shí）性和附著力（lì）好。不存（cún）在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等問題。
（5）工藝靈活，改變品（pǐn）種方便。可鍍單麵、雙麵和單層、多層及混合（hé）層。鍍膜（mó）厚度（dù）易於控製。
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