 
    主要型號:
| 型號 | 功率(kW) | 工作電(diàn)壓(V) | 最(zuì) 大工(gōng)作電流(A) | 主機外形尺寸 | 升(shēng)壓(yā)轉換器外形尺寸 | 冷卻 方式 | 
| HVB-5kV1A | 5 | 5kV | 1A | 480*243*565 (WHD) | 220*230*400 (WHD) | 風冷 | 
| HVB-5kV2A | 10 | 5kV | 2A | |||
| HVB-5kV4A | 20 | 5kV | 4A | 
主要特點:
   A 采用先進的電流型開關電源技術,減小輸出儲能元件,
同時提高了抑製打火及重(chóng)啟速度。
   B 具備恒(héng)流/恒功率模式可選。
   C 具有理想的電壓陡降特性,自(zì)動識別偽打火現象,
充分滿(mǎn)足轟擊清洗過程的連續性。
   D 主要參數可大範圍調節。
   E 可(kě)選擇手動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采(cǎi)用(yòng)先進的PWM脈寬調製技術,使(shǐ)用進口IGBT或(huò)MOSFET作為(wéi)功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格(gé)完善(shàn)。
該係列產品采用(yòng)先進的(de)DSP控製係統,充分保(bǎo)證鍍膜工藝的(de)重複性,
並且具有抑製靶材弧光(guāng)放電及抗短(duǎn)路功能,
具有極佳的負載匹配(pèi)能力,既保(bǎo)證了靶麵清洗(xǐ)工藝的穩定性,又提高了(le)靶麵清洗速度;
主(zhǔ)要參數均可大範圍連續調(diào)節;
方便維護,可靠性(xìng)高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動化控(kòng)製。
主要用途:
MSB高壓雙極清洗電源適用於工件鍍膜前的高壓轟擊清洗(xǐ)和鍍矽油保護膜。
在高技術產業化的發展中展現出(chū)誘人的市場前景。這(zhè)種的真空鍍膜技術已在國民經濟各個領域得到應用。真空鍍膜技術是真空應(yīng)用技(jì)術的一個重要分支,它已廣泛地應(yīng) 用於光學、電子學、能源開(kāi)發、理化儀器、建築機(jī)械、包裝、民(mín)用製品、表麵科(kē)學以及科學研究等領域中。真空鍍膜(mó)所采用的(de)方法主要(yào)有蒸發鍍.濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。這種真(zhēn)空鍍膜電源優勢會體現的比較明顯。

選用(yòng)了領先的PWM脈寬調製技術,具有傑出的動態特性和(hé)抗幹擾才能,動態呼應時刻小於10mS。規(guī)劃有電壓、電流雙閉環操(cāo)控電(diàn)路,可實(shí)時對輸出電壓電流的(de)操控,能有用處理濺射過程中陰極靶(bǎ)麵(miàn)的不清潔導致弧光放電造成大電流衝擊導致電源的損壞疑問。選用數字化DSP操控技(jì)術,主動操控電源的恒壓恒流狀況。在起弧和維弧時能主動疾速操控電壓電流(liú)使起(qǐ)弧和維弧作業更安穩。
真空室裏的堆積條件跟著(zhe)時刻發作改動(dòng)是常見的表象。在一輪運(yùn)轉過中,蒸(zhēng)發源的特性會跟著膜材的耗(hào)費而改動,尤其(qí)是規劃中觸及(jí)多層鍍膜時,假如技術進程需繼續數個小時,真空室(shì)的熱梯度(dù)也會上升。一起(qǐ),當真空室(shì)內壁發(fā)作堆積變髒時,不(bú)一樣(yàng)次序的(de)工效逐步發生區別。這些要素(sù)雖然是漸進的並可(kě)以進行(háng)抵償,但仍然大概將其視為體係公役(yì)的一部分。
 
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