真空鍍膜電（diàn）源的工作原理

直流電源（yuán）工作（zuò）原理（以常見的直流濺射鍍膜電源為例）
直流電源的輸出端連接到濺射（shè）靶材和鍍（dù）膜基底所在（zài）的真（zhēn）空腔體（tǐ）內。在真空環境下，電源提供穩定的直流電壓，使得靶材相對於基底帶負電。當電（diàn）壓達到一定程度時，腔體內的氣體（通常為惰性氣體，如氬氣）被電離形（xíng）成等離子體，其中的正（zhèng）離子在電場作用下加速（sù）轟擊靶材表麵（miàn）。靶材原子在離子（zǐ）轟擊下被（bèi）濺（jiàn）射出來，然後（hòu）沉積到基底（dǐ）表麵，從而形成鍍膜層。電源的作用就是持續穩定地提供這個驅動離子轟擊以及維持等離子體的電壓（yā），並且通過調節輸出電壓（yā）、電（diàn）流（liú）等參數來控（kòng）製濺射速率等鍍膜相關參（cān）數。

交流電源工作原理（比如中（zhōng）頻、高頻電源用於某些鍍膜工藝）
對於中頻（一般頻率在幾十千赫茲）和高頻（頻率更高，可達兆赫茲級別）電源，它們通過交變的電場來使氣體電離形成等（děng）離子體。以中頻電（diàn）源為例，其（qí）輸出（chū）的交變電流會在（zài）真空（kōng）腔體內產生周期性變化的（de）電場，使得氣體分子（zǐ）在不同時刻分別被加速、電離，產生的等離子（zǐ）體中的離子周期性地轟擊靶材，實現材料的濺射（shè）和鍍膜。高頻電源（yuán）則利（lì）用更高頻率的交變電場，能更有效地產（chǎn）生高密度的等離子體，適用於一些對鍍（dù）膜質量、鍍膜速（sù）率要求更高的（de）工藝場景。其工作過程中，電源的頻（pín）率、功率等參數對（duì）等離子體的狀態以及最終的鍍膜效果起（qǐ）著關（guān）鍵（jiàn）的調節作用。

脈衝電源工作原理
脈衝電源是按照一定的時間間隔輸（shū）出脈衝式的電（diàn）壓或電流。在脈衝的高電平階（jiē）段，會在真空腔體（tǐ）內產生足夠強的電場（chǎng）使氣體（tǐ）電離、驅動離子轟擊靶材等，實現（xiàn）鍍膜材料的濺（jiàn）射或蒸（zhēng）發等過程；而在脈衝的低電平階段，等離子體等狀（zhuàng）態會短暫調整，這樣可以避免連續工作時可能出現的一些諸如靶材過（guò）熱、等（děng）離子體不穩定等問（wèn）題。通過調節（jiē）脈衝的頻率、寬度、幅值等參數，能夠（gòu）精準地控製鍍膜過程中的瞬時功率、平均功率等，進而有效控製鍍膜的質（zhì）量和速率（lǜ），尤其適用於一些對（duì）膜層微觀結構、性能要求特殊的鍍膜應用。