真空鍍（dù）膜機幾種鍍膜方法介紹

真空鍍膜設備（bèi）的鍍膜（mó）工藝有很多。簡單來說，就是（shì）利用（yòng）蒸發、濺射等方法，在真空環境下發射薄膜顆粒，將其沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑料件等物體上，形成客戶需（xū）要的各種塗層。在日常生活中較為常見的技術有真空蒸發（fā）、濺射鍍膜、離子鍍膜等

真空蒸發鍍膜:原理是用蒸發器在（zài）真空條件下加熱薄膜材料，使其汽化或升華。蒸發的粒子（zǐ）流直接（jiē）指向基材，在基材上沉積固體薄膜。蒸發又可分為電子束蒸（zhēng）發、電阻（zǔ）蒸發、感應蒸（zhēng）發等

濺射鍍膜:在真空（kōng）條件下，對陰極施加高壓電激發輝光放電，帶正電的氬離子與陰極靶材碰撞，使其射出薄膜顆粒，沉積在（zài）基材上，形成薄膜層。

離子塗層:離子塗（tú）層通常是（shì）指在（zài）塗層（céng）過（guò）程中產生大量離子的塗層方法。在膜的形（xíng）成過程中，基底不斷（duàn）受到高能粒子的（de）轟擊，膜層的強度和附著力非常強。當離子鍍用（yòng）於生產高（gāo）精度膜層時，可以過（guò）濾掉大（dà）顆粒離子，從而獲得高結構、高密度（dù）的膜層。

日常生活中較常用的鍍膜技術就是這三種真空鍍膜（mó）設備。具體選（xuǎn）擇取決於要塗覆的膜（mó）層類型、要塗覆的工（gōng）件類型（xíng）等。