真（zhēn）空鍍膜應用的（de）主要方法

真空鍍膜應用（yòng），簡單來說（shuō）就是指在真空環（huán）境下，利用蒸（zhēng）發、濺射以及後（hòu）續的冷凝等方法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑料件等物體上沉積金屬（shǔ）薄膜或塗層。真空鍍膜應（yīng）用（yòng）與傳統鍍膜方法（fǎ）相比，屬（shǔ）於幹式鍍（dù）膜方（fāng）法，其主要方法有以下幾種:

真空蒸發鍍膜

原理是用蒸發器在真空條件（jiàn）下加熱（rè）蒸發的（de）物質，使其蒸發或升華。蒸（zhēng）發的離子流（liú）直接（jiē）指向（xiàng）襯底，在襯底上沉積固體薄膜。

濺射沉積

濺射鍍膜是在（zài）真空條件下，對陰極施加2000V的高壓激發輝（huī）光放電（diàn）的（de）過程。帶正電的氬離子與陰極碰撞（zhuàng），使其釋放出原子，這些原子隨後在惰性氣氛中沉積在襯底上，形成一層薄膜。

離子塗層

幹式螺（luó）杆泵生產廠家已經推出了真空離子鍍膜。它（tā）是在上述（shù）兩種真空鍍膜技術的基礎上，結合了兩者的工藝特點而（ér）發展（zhǎn）起來的。在真空條件下，用氣體放電使工作氣體或蒸發物質（zhì）(膜材料)部分電離，在離子轟擊下，蒸發物質或其反應物（wù）沉積在襯底表麵。在膜的形（xíng）成過程中，基底總是受到高能粒子的轟擊，使其（qí）非常幹淨。

真空繞組鍍膜

真空纏繞鍍（dù）膜是一種（zhǒng）利用物理氣相沉積對柔性基材進行連續鍍膜（mó）的技術（shù），以達到柔性基材的某些功能和裝飾性（xìng）能。