真空鍍膜和光學鍍（dù）膜差異

一、概（gài）念差異

1.真（zhēn）空鍍（dù）膜是指在高真空條件下加熱金屬或非金屬材料，使其在被鍍物體（tǐ）(金屬、半導體或絕緣體)表麵（miàn）蒸發凝結形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真（zhēn）空鍍鉻等（děng）。

2. 光學鍍膜是指在光學元件表麵塗覆一層（céng）(或多層)金屬(或介電)薄（báo）膜的工藝。在光學元件表麵塗膜的目的是為了減少或增加光（guāng）的反射、分束、分（fèn）色、過（guò）濾、偏振等要求。常用的包覆方法有真空（kōng）包覆(物理包覆的一種)和化學包覆。

二、原則差異

1. 真空鍍（dù）膜是真空應用的一個重要（yào）方麵，它以真空技術為基礎，利用物理（lǐ）或化（huà）學方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻（pín）、磁控管等一係列新技術，為科學研究和實際生（shēng）產提供了薄膜製（zhì）備的新工（gōng）藝（yì）。簡單地（dì）說，就是在真空中蒸發或濺射金（jīn）屬、合金（jīn）或化合物，使其（qí）凝固並沉積（jī）在塗層物體(稱為基材（cái）、襯（chèn）底或襯底)上的方法。

2. 光的幹（gàn）涉在薄膜（mó）光學中（zhōng）有著廣泛的應用（yòng）。光學薄膜技術常用的方法是利用真空濺射在玻璃基板上塗覆薄膜，一般用來控製基板對（duì）入射光束的反射率和透射率（lǜ），以滿足不同的需要。為了消除光（guāng）學元件表麵的反射損耗，提高成（chéng）像質量，在（zài）表麵塗覆一（yī）層或多層透明的介電膜，稱為防反（fǎn）射膜或防反射膜（mó）。

隨著激光（guāng）技術的發（fā）展，對（duì）膜層的反射率和透射率有（yǒu）了不同的要（yào）求（qiú），促進了多層高反射膜和寬帶增透（tòu）膜的發展。為滿足各種應用的（de）需要（yào），采用高反射膜製造偏光反射膜、彩色（sè）光（guāng）譜膜、冷光膜、幹涉濾光片等。光學元件表麵塗覆後，光在膜層上多（duō）次反射和透射（shè），形成多束幹涉。通過控製（zhì）膜層的折射率和厚（hòu）度（dù），可以得到不同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本（běn）原理。

三、方法和材料的差異

1. 材料采用真空鍍膜法:

(1)真空蒸發鍍膜:對（duì）待鍍膜基材進行清洗後，置於鍍膜室內，將其抽離，並將膜材加熱至高溫（wēn），使蒸（zhēng）汽達（dá）到13.3Pa左右，蒸汽分子飛（fēi）向基材表麵，凝結成薄膜。

(2)陰極濺射鍍:將待鍍基材置（zhì）於陰極對麵，將惰性氣體(如氬氣)引入真空室，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將（jiāng）陰極接2000V直流電源激發輝光放電。帶正電的氬離子與陰極碰撞，使陰極（jí）射出原子。濺落的原子通過惰（duò）性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬（shǔ）或有機化合物進行熱分解得到沉積薄膜的（de）過程（chéng）。

(4)離子鍍:離子鍍（dù）本質上是真空蒸發和陰極濺射的有機（jī）結合，結合（hé）了兩（liǎng）者的工藝特點。各種塗裝方式的優缺點如表6-9所示。

2. 光學鍍膜方法材料

(1)氟（fú）化鎂（měi）:一種純度高的無色四方結晶粉末。用（yòng）它來製作光學鍍膜可以提（tí）高透光率，防止坍塌點。

(2)二氧化矽:無色（sè）透明晶體，熔點（diǎn）高，硬度高，化學穩定性好。純度高（gāo），用它製備高質量的SiO2塗層，蒸發狀態好（hǎo），無坍塌點。根據使用要求分為紫外線、紅外線和可見光（guāng）。

(3)氧化鋯（gào）:白色重晶（jīng）態，高折射（shè）率，耐高溫。化學性質穩定，純度高。可用（yòng）於製備（bèi）無斷裂點的高（gāo）質量氧化（huà）鋯塗層。