關於真空離子（zǐ）鍍膜的作用

2020-07-25 00:00:00

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真（zhēn）空（kōng）鍍（dù）膜電源（yuán）廠家的（de）在真空離子鍍膜中，尤其對於多弧離（lí）子鍍膜，無（wú）論是裝飾鍍還是工具鍍，轟偏電源的好壞對於成膜質量（liàng）都起（qǐ）著非常關鍵（jiàn）的作用。裝飾鍍（dù）和工具鍍對膜層質量的要求有（yǒu）相同之處又各有側重。

離子源電源（yuán）

離子鍍是（shì）真空室中，利用（yòng）氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣（qì）體離子或被蒸發物質粒子轟（hōng）擊作用的（de）同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和（hé）真（zhēn）空蒸發三者有機結合起（qǐ）來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。多弧電源其（qí）優點是（shì）薄膜附著力（lì）強，繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離子鍍原理，起工作過（guò）程是：

先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高壓電源（yuán），在蒸發源與基片之間建立一個低壓氣體放電的低溫（wēn）等離子區。基片（piàn）電極接上5KV直流負高壓，從而形（xíng）成光放電陰極。輝光（guāng）放電去產生的惰性（xìng）氣體離子進入陰（yīn）極暗區被電場加速並轟擊基片表麵（miàn），對其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣（qì）化，起原子進入等（děng）離子區，與（yǔ）惰性氣體（tǐ）離子及電子發生碰撞，少部分產（chǎn）生離化。離化後的例子及氣（qì）體離子以較高能量轟擊鍍（dù）層表麵，致使膜層質量（liàng）得到改善。